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清華大學提出的國產光刻機新方案，該方案使用粒子加速器代替傳統光刻機生產芯片，能夠覆蓋14納米到1納米的工藝。

ASML公司依賴EUV光刻機技術佔據芯片製造設備市場頂端；而清華大學SSMB技術（超級同步多光束技術）提供了一種新的超高功率光源，波長覆蓋範圍遠超傳統EUV光刻機，且製造和維護成本更低。

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4 個月前